喜報(bào)：熱烈祝賀耀先環(huán)境與老客戶(hù)國(guó)家有機(jī)硅龍頭企業(yè)南京某有機(jī)硅公司再次簽訂車(chē)間粉塵治理項(xiàng)目

作者：admin 發(fā)布時(shí)間：2022-05-10 瀏覽次數(shù)：38

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喜報(bào)：熱烈祝賀耀先環(huán)境與老客戶(hù)國(guó)家有機(jī)硅龍頭企業(yè)南京某有機(jī)硅公司再次簽訂車(chē)間粉塵治理項(xiàng)目

疫情當(dāng)下，耀先環(huán)境接連傳來(lái)的好消息，，南京有機(jī)硅公司的一筆大訂單，隨著光伏行業(yè)的欣欣發(fā)展, 一些問(wèn)題也逐漸顯露出來(lái)�？茖W(xué)合理的處理常見(jiàn)太陽(yáng)能電池, 包括晶體硅、非晶硅、銅銦鎵硒、砷化鎵、碲化鎘和染料敏化納米晶太陽(yáng)能電池在生產(chǎn)過(guò)程中產(chǎn)生的各種可能污染物，如微米/納米顆粒的粉塵和固體廢棄物; 酸堿廢液、重金屬離子、有機(jī)溶劑和納米粒子的液體產(chǎn)物; 粉塵、煙氣、納米顆粒和化學(xué)氣體的尾氣產(chǎn)物等，對(duì)維護(hù)環(huán)境，維持行業(yè)的健康發(fā)展有非常重大的現(xiàn)實(shí)意義。本文廢氣處理廠家將簡(jiǎn)要的探討多晶硅生產(chǎn)工藝中廢氣處理設(shè)備問(wèn)題。

一、多晶硅生產(chǎn)工藝中廢氣與來(lái)源
多晶硅主要的生產(chǎn)工藝，是通過(guò)工業(yè)硅與氣態(tài)氯化氫的反應(yīng)，將其轉(zhuǎn)化為由三氯氫硅、四氯化硅、二氯氫硅、聚氯硅烷、金屬雜質(zhì)等組成的混合蒸汽并將其冷凝，用精餾的方法從冷凝液中分離出高純度的三氯氫硅，再將汽化的三氯氫硅，與氫氣按一定比例混合引入多晶硅還原爐。在置于還原爐內(nèi)的棒狀硅芯兩端加以電壓，產(chǎn)生高溫。在高溫硅芯表面，三氯氫硅被氫氣還原成元素硅，并沉積在硅芯表面，逐漸生成所需規(guī)格的多晶硅棒。
（1）含氯空氣：主要來(lái)源是從液氯鋼瓶或汽化系統(tǒng)設(shè)備、管線(xiàn)泄漏出來(lái)的氯氣
入廢氣處理塔的含氯空氣，在填料層與自上而下的堿液逆流接觸，氯氣與堿液中的NaOH反應(yīng)生成NaClO、NaCl和H2O而被吸收。因反應(yīng)放熱，塔內(nèi)液體和氣體的溫度均有升高。用事故風(fēng)機(jī)抽出塔頂經(jīng)處理達(dá)標(biāo)的氣體放空；出塔底的液體靠位差流入堿液循環(huán)槽，再用堿液循環(huán)泵抽出，經(jīng)堿液循環(huán)冷卻器用循環(huán)冷卻水冷卻后，送入廢氣處理塔頂用作吸收劑。當(dāng)循環(huán)堿液中NaOH濃度降至2~3%（w）時(shí)，停止使用工作槽中的堿液，切換至堿液循環(huán)備用泵，將備用槽中貯存的濃度為15%（w）的新鮮NaOH溶液送入廢氣處理塔吸收氯氣。在備用泵、備用槽系統(tǒng)作吸收操作期間，原工作泵、工作槽系統(tǒng)需完成以下工作：用泵將槽內(nèi)含10%NaClO的液體排至次氯酸鈉溶液貯槽貯存，然后將配制好的NaOH溶液送入槽內(nèi)貯存，以備隨后用于氯氣的吸收次氯酸鈉溶液貯槽內(nèi)貯存的10%NaClO溶液，用泵裝車(chē)，作為商品外售。必要時(shí)，亦可將其送至工藝廢料處理工序處理。15%NaOH溶液的配制，是將從35%NaOH貯槽送來(lái)的濃堿液放入15%堿液配制槽內(nèi)。向槽中通入一次水，將堿液稀釋至所需濃度。事故風(fēng)機(jī)、廢氣處理塔、堿液循環(huán)系統(tǒng)保持連續(xù)運(yùn)轉(zhuǎn)。
（2）三氯氫硅合成系統(tǒng)廢氣：
出三氯氫硅合成爐的夾帶有硅粉的汽氣混合氣依次進(jìn)入一、二、三級(jí)旋風(fēng)除塵器，氣體中的大部分硅粉被分離下來(lái)，隨即落入安裝于下方的三個(gè)小集塵罐。定期把硅塵從小集塵罐中卸到集塵罐中。定期將罐中硅粉卸出，送去處理。
經(jīng)“干法”除塵后的汽氣混合氣進(jìn)入濕氫處理塔頂部，與同樣從頂部注入的四氯化硅液體混合，自上而下流動(dòng)。從塔下部送入用脫鹽水增濕的氫氣，與塔內(nèi)的氣液混合物接觸，促使汽氣混合氣中所含的金屬氯化物發(fā)生部分水解，同時(shí)，汽氣混合氣中的部分細(xì)小硅塵被液體四氯化硅洗下，混合氣亦被四氯化硅冷卻。
從濕氫處理塔下部出來(lái)，含固態(tài)雜質(zhì)的汽氣液混合物進(jìn)入鼓泡蒸餾釜并被引至液下。氣體鼓泡溢出，隨后由下而上進(jìn)入泡塔，與從塔頂流下的液體四氯化硅逆流接觸，被進(jìn)一步冷卻并除去細(xì)小的硅塵和金屬雜質(zhì)。
出鼓泡塔，除去了固態(tài)雜質(zhì)的冷卻汽氣混合氣，壓力為0.2～0.25MPa，溫度為50～90℃，被送入汽氣混合氣分離系統(tǒng)（CDI-3）。在該系統(tǒng)內(nèi)，汽氣混合氣中的氯硅烷被冷凝分離出來(lái)，送入三氯氫硅儲(chǔ)槽（氯硅烷儲(chǔ)槽），然后被送往三氯氫硅提純工序粗精餾部分的一級(jí)精餾塔。同時(shí)，氫氣和氯化氫氣體也從CDI-3系統(tǒng)中分離出來(lái)，兩種氣體分別被送回氯化氫合成工序的氫氣緩沖罐和氯化氫緩沖罐，循環(huán)用于氯化氫合成和三氯氫硅合成。
鼓泡塔底引出的含四氯化硅、三氯氫硅、聚氯硅烷、硅渣和其它雜質(zhì)的液體，被泵送至三氯氫硅提純工序粗精餾部分六級(jí)精餾塔。
貯存于四氯化硅儲(chǔ)槽的四氯化硅，由泵送至濕氫處理塔和鼓泡塔頂，用作濕法除塵的洗滌液。
（3）提純工藝中的廢氣處理設(shè)備
三氯氫硅提純工序各精餾塔頂排放的含氯硅烷、氮?dú)獾膹U氣，及含氯硅烷、氫氣、氮?dú)�、氯化氫的多晶硅還原爐置換吹掃氣和多晶硅還原爐事故排放氣，被送進(jìn)尾氣洗滌塔，用10%石灰水洗滌，廢氣中的氯硅烷（以SiHCl3為例）和氯化氫與石灰水中的CaO發(fā)生以下反應(yīng)而被除去：
SiHCl3+3H2O=H2SiO3+3HCl+H2
H2SiO3+CaO=CaSiO3+ H2O
2HCl+CaO=CaCl2+H2O

出塔底洗滌液用泵送入帶攪拌的石灰漿液槽，隨后用泵送回尾氣洗滌塔頂循環(huán)使用。當(dāng)槽內(nèi)的石灰漿濃度下降至2%時(shí)，將含有CaCl2、CaSiO3和未反應(yīng)CaO的部分液體抽出送往工藝廢料處理工序處理，隨即向槽內(nèi)補(bǔ)充新鮮石灰漿。

以上就是關(guān)于多晶硅工藝廢氣治理的全部?jī)?nèi)容，若有不妥之處歡迎直接指出，光伏行業(yè)廢氣在不同的環(huán)節(jié)有很多不同類(lèi)型的廢氣產(chǎn)生，今后耀先將會(huì)陸續(xù)更新其他工藝的廢氣處理設(shè)備以及方法

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